臺積電退出 英飛凌推進:擴展GaN晶圓生產(chǎn)
時間:2025-07-07
來源:21ic電子網(wǎng)
英飛凌強調(diào),其作為垂直整合制造商(IDM)的生產(chǎn)策略,能夠確保更高質(zhì)量的產(chǎn)品、更快的上市時間以及出色的設計和開發(fā)靈活性。
公司掌握了在硅(Si)、碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)這三種關(guān)鍵材料上進行300mm晶圓生產(chǎn)的技術(shù)。GaN半導體因其更高的功率密度、更快的開關(guān)速度和更低的功率損耗優(yōu)勢,可實現(xiàn)更緊湊的設計,從而顯著降低智能手機充電器、太陽能逆變器、工業(yè)及人形機器人等電子設備的能耗和發(fā)熱。
英飛凌是全球首家成功在現(xiàn)有基礎(chǔ)設施中開發(fā)出300mm
GaN晶圓技術(shù)的半導體制造商。與當前主流的200mm晶圓相比,300mm晶圓生產(chǎn)技術(shù)更先進、效率更高,更大的晶圓直徑使每片晶圓的芯片產(chǎn)量提升至原來的2.3倍。
與此同時,有傳聞稱晶圓代工龍頭臺積電(TSMC)將退出GaN晶圓代工市場,其位于中國臺灣新竹的相關(guān)產(chǎn)線將停止生產(chǎn)。
臺積電已向DigiTimes證實此消息,表示經(jīng)過全面評估后,基于市場狀況和公司長期業(yè)務策略的考量,決定在未來兩年內(nèi)逐步退出GaN晶圓代工業(yè)務。臺積電表示正與客戶緊密合作,以確保在過渡期內(nèi)順利完成業(yè)務交接。
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