4月19日，光刻機大廠ASML公布了2023年第一季的財報，凈銷售額達67.46億歐元，同比增長91%，好于市場預期的63.1億歐元;毛利潤為34.13億歐元，同比大漲97.17%;凈利潤為19.56億歐元，同比大漲183%，超出市場預期的16.2億歐元;毛利率為50.6%，略低于上一季度的51.5%。

　　按業(yè)務劃分，ASML今年一季度系統(tǒng)凈銷售額為53.42億歐元，去年同期為22.87億歐元，同比增長134%;服務和現(xiàn)場選項凈銷售額為14.04億歐元，去年同期為12.47億歐元，同比增長13%。

　　按產品類型劃分，ASML今年一季度出售了17個EUV光刻機系統(tǒng)，出貨量最高的是KrF系統(tǒng)，出貨數(shù)量為43臺。

　　從各地區(qū)的出貨占比來看，今年一季度，占比最大的還是中國臺灣(49%)，緊隨其后則是韓國(26%)、美國(15%)，中國大陸占比僅有8%，相比上個季度減少了1個百分點。

　　從最終應用領域來看，今年一季度應用于邏輯芯片制造領域設備銷售額為37.61億歐元，存儲領域設備銷售為15.81億歐元，安裝基礎管理服務銷售額為14.04億歐元。

　　ASML 總裁兼首席執(zhí)行官 Peter Wennink 表示，第一季的凈銷售額和毛利率均高于此前的財測水準，這是因為該季系統(tǒng)安裝速度加快和驗收時間提前，導致 EUV 和 DUV 系統(tǒng)的銷售額高于預期。

　　報告還顯示，第一季凈預訂銷售額為38億歐元，其中16億歐元為 EUV 極紫外光刻機。

　　ASML預計2023年第二季淨銷售額在 65 億歐元至 70 億歐元之間，毛利率在50%至51%之間。ASML 還預計 2023 年凈銷售額將比2022年增長25% 以上。

　　Peter Wennink表示，“隨著行業(yè)正在努力將庫存降至更健康的水平，我們繼續(xù)看到不同終端市場的需求信號不一?？傮w需求仍然超過了我們今年的產能，目前我們的積壓訂單總額超過了389億歐元。”我們的重點仍然是最大化系統(tǒng)供給量。整體來說，2023 年，ASML 預計將繼續(xù)強勁成長，凈銷售額將比2022年增長25% 以上，而毛利率液將略有提高。

　　Peter Wennink進一步指出：“2023年我們預計將交貨大約 60 個 EUV 微影曝光設備，還有大約 375 個 DUV 微影曝光設備。在 DUV 當中，約 25% 是沉浸式設備，這仍然是我們的期望。另外，EUV 的業(yè)務預計成長 40%，非 EUV 業(yè)務成長 30%，基礎安裝 (Installed Base) 業(yè)務成長約 5%?！?/p>

　　只是延期，不存在砍單情況

　　近日有傳聞稱，受臺積電縮減資本支出影響，荷蘭光刻機大廠ASML也遭遇了大幅砍單，其2024年的部分設備訂單被臺積電砍了約40%。對此傳聞，雖然ASML官方雖然并未正面回應，但ASML首席財務官Roger Daasen承認，一些大公司正在“推遲對某些工具的需求時間”，但他同時指出，其他公司很樂意接管這些訂單?！皩τ趦却婵蛻簦覀兇_實看到他們限制了他們的資本支出，我們在某些邏輯領域也看到了一些這種行為?！?/p>

　　一位ASML內部人士也對芯智訊表示，傳聞中關于砍單的說法是不對的，應該是延期，而延期是時間變化，并不影響訂單量。臺積電的確有調整新增產能的計劃，但是絕對不是網(wǎng)傳的“40%砍單”，即使有設備訂單延后也是正常的。因為ASML本來交貨期就非常長，所以臺積電如果將訂單延后，短期利好現(xiàn)有排隊等貨的客戶，中期面臨交貨峰值往后延一定時間，也為ASML增產帶來更大空間，長期來說總體需求并沒有發(fā)生變化。

　　“我們2023-2024年供應缺口一樣很大，大家看季度財報就能看出來，不需要聽這些江湖傳言?！痹搩炔咳耸空f到。

　　據(jù)悉，ASML的產品現(xiàn)在嚴重的供不應求，2023年的供應缺口仍高達30%，2024年供應缺口更是高達50%。現(xiàn)在的交期也是大于18個月，也就是說即使現(xiàn)在下單，也要18個月后才能交貨。這也是為什么目前ASML的積壓訂單總額超過了389億歐元的關鍵原因。

　　關于荷蘭政府出口管制政策的影響

　　今年3月8日，ASML通過官網(wǎng)發(fā)布了《關于額外出口管制的聲明》稱，荷蘭政府于當天發(fā)布了有關即將對半導體設備出口進行限制的更多信息。這些新的出口管制側重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積和部分浸沒式光刻設備。

　　ASML當時表示，荷蘭政府新出臺的額外的出口管制并不涉及所有浸沒式光刻設備，而只涉及所謂的“最先進”設備。盡管ASML尚未收到有關“最先進”確切定義的任何其他信息，但ASML將其解釋為“關鍵浸沒式光刻設備”，ASML將其定義為TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸沒式光刻系統(tǒng)。

　　ASML強調，主要關注成熟節(jié)點的客戶可以繼續(xù)使用不太先進的浸沒式光刻工具。預計新出臺的額外的出口管制措施并不會對其此前發(fā)布的2023財年的財務展望或去年底投資日上宣布的長期愿景產生重大影響。

　　時至今日，荷蘭政府尚未正式發(fā)布相應的出口管制政策的細節(jié)。在此次的財報會議上，外界也期望ASML能夠進一步明確相關限制對公司的影響。

　　對此，ASML首席財務官Roger Daasen表示，公司仍在等待荷蘭當局的詳細情況說明，但正如之前所提到的，這實際上是針對的先進半導體制造，對公司的影響是，公司出口先進的浸入式光刻設備需要許可證。而公司對于先進浸入式設備的解釋是“NXT:2000及后續(xù)版本”。

　　官網(wǎng)顯示，目前ASML在售的浸沒式光刻機主要有三大型號：NXT:2050i、NXT:2000i 和NXT:1980Di。根據(jù)ASML的解讀，其NXT:2000i及之后的浸沒式光刻系統(tǒng)將會受到出口限制。這也意味著，NXT:1980Di 仍將可以出口。

　　據(jù)芯智訊了解，NXT:1980Di 雖然分辨率在38nm左右，但是通過多重曝光，依然可以支持到7nm左右。只不過，這樣步驟更為復雜，成本更高，良率可能也會有損失。據(jù)說臺積電的第一代7nm工藝也是基于 NXT:1980Di 實現(xiàn)的。

　　據(jù)ASML相關人士向芯智訊透露，目前NXT:1980系列已經(jīng)升級到了NXT:1980 F，NXT:1980D是兩代之前的產品了。之前的NXT:1980 D/E都是基于NXT3平臺，F(xiàn)是新的NXT4平臺，每小時的生產晶圓數(shù)量從275wph上升到了295wph，而且NXT4平臺還能支持后續(xù)升級到330-350wph。

　　至于新規(guī)對于ASML中國大陸業(yè)務的影響，Peter Wennink表示，2023年第一季度，中國大陸對ASML總銷售額貢獻約為8%(雖然相比上個季度下滑了1個百分點)，在總的積壓訂單額當中的占比約20%，預計全年這個比例會維持不變。他還表示“今年其余季度，市場可以看到中國銷售份額將有明顯提升”。預計，今年來自中國的收入將大幅增加，但部分產品的銷售最終可能會受到荷蘭出口管制措施的影響。

　　Roger Daasen進一步表示，根據(jù)迄今為止荷蘭政府所發(fā)布的內容、公司對出口許可證的解釋、當前的環(huán)境、公司在發(fā)展的基礎上所模擬的未來的預期角度來看，這并非是基于地域分布，而是基于全球對于光刻的需求，因此公司認為這對公司2023年的指引或公司針對2025、2030年的發(fā)展所模擬的情景預期不會產生重大影響。