晶圓代工龍頭臺(tái)積電日前在日本舉行了一次會(huì)議，除了介紹了N3E節(jié)點(diǎn)制程的進(jìn)展及其帶來的性能提升之外，該公司還提供了下一代N2節(jié)點(diǎn)制程的路線規(guī)劃。

　　臺(tái)積電業(yè)務(wù)開發(fā)資深副總張曉強(qiáng)在會(huì)議上描述了公司的加速成長(zhǎng)，指出2022財(cái)年的資本支出達(dá)到了54億美元。此外，臺(tái)積電的研發(fā)人員也達(dá)到了8558人，這表明該公司正在迅速擴(kuò)大其設(shè)施，并在下一代制程技術(shù)上投入時(shí)間和金錢。

　　該公司強(qiáng)調(diào)了之前制程的演變，還展示了5納米制程的每個(gè)衍生產(chǎn)品的性能提升。其中，除了N5P、N4和N4P制程技術(shù)外，該公司還分享了新N4X節(jié)點(diǎn)的數(shù)據(jù)，表示與3年前發(fā)表的N5制程相較，性能提升了17%，芯片密度提高了6%。

　　之后談到3納米制程，臺(tái)積電表示，自2022年初開始量產(chǎn)之后，隨后更新的N3E制程技術(shù)已獲得技術(shù)認(rèn)證，將于2023年下半年商用。此外，N3P制程是先進(jìn)版本之一3納米制程系列，預(yù)計(jì)將于2024年投產(chǎn)，其與N3E相較，性能提升5%，功耗降低5~10%，芯片密度提高1.04倍。

　　至于，針對(duì)汽車產(chǎn)業(yè)的快速需求，臺(tái)積電還計(jì)劃推出N3AE制程技術(shù)，該制程技術(shù)以N3制程技術(shù)為基礎(chǔ)，但針對(duì)自動(dòng)駕駛等應(yīng)用進(jìn)行了強(qiáng)化。它最初將提供PDK套件提供給客戶，以測(cè)試及獲得對(duì)新設(shè)計(jì)的支持。

　　最后，臺(tái)積電提到了備受期待的2納米制程技術(shù)，該制程發(fā)展正在進(jìn)行中，預(yù)計(jì)將于2025年量產(chǎn)。臺(tái)積電在該制程將轉(zhuǎn)向納米片技術(shù)，放棄FinFET晶體管技術(shù)，主要是因?yàn)樾阅苄实牟町悺?duì)此，先前有報(bào)導(dǎo)表示，蘋果將獲得臺(tái)積電提供折扣價(jià)的2納米制程技術(shù)，這表示蘋果對(duì)該制程的興趣仍然存在。

　　最后，臺(tái)積電日本公司總裁Makoto Onodera上臺(tái)演說，說明了該公司為推動(dòng)當(dāng)?shù)?a href="http://www.wangxinlc.cn/i/semiconduc/" target="_blank" rel="nofollow">半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所做的努力。他強(qiáng)調(diào)，最先進(jìn)的日本熊本晶圓廠計(jì)劃于2024年底投產(chǎn)。整體來說，此次活動(dòng)的目的是激發(fā)日本商界對(duì)臺(tái)積電現(xiàn)有和下一代制程技術(shù)的興趣。