據韓國媒體報道，為縮小與對手臺積電的市占差距，三星開始開發(fā)極紫外光(EUV)護膜。
光罩護膜是極紫外光(EUV)微影曝光時的關鍵零件，在光罩加裝一層護膜，機器在上面繪制要刻上晶圓的電路，以免光罩受空氣微塵或揮發(fā)性氣體污染，同時減少光罩損壞率。目前，全球主要供應商是荷蘭ASML、日本三井化學和韓國S&S Tech。
據悉，三星此前在 2021年的Foundry Forum就曾宣布要自研EUV護膜，并2023年初開發(fā)透光率達88%的EUV護膜。若按照三星計劃進行，目前該公司EUV護膜應已量產，有助達成供應鏈多元化和穩(wěn)定。不過三星要繼續(xù)開發(fā)，因88%透光率護膜并不是品質最好的產品。
韓媒BusinessKorea報道，三星半導體研究所近期的招聘啟事顯示三星正積極開發(fā)透光率92%的EUV護膜。目前，市場市場研發(fā)透光率達90%以上EUV護膜主要為ASML和S&S Tech，后者于2021年成功開發(fā)透光率為90%的EUV護膜。
此外，三星也開始研究下一代High-NA EUV護膜，將采用新材料，也將與外部機構合作，開發(fā)評估碳納米管和石墨烯制EUV護膜。同時三星也會推動自行開發(fā)的納米石墨薄膜大量生產設施設計。
值得一提的是，臺積電從2019年開始，就使用自行開發(fā)的EUV護膜，且2021年宣布產能比2019年提高20倍。市場人士表示，三星推動EUV護膜開發(fā)，就是為了追上臺積電。
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