時(shí)間:2020-10-23 10:36:21來源:IEEE電氣電子工程師學(xué)會(huì)
現(xiàn)如今,密集的電子設(shè)備產(chǎn)生的熱量是一種昂貴的資源消耗。為了使系統(tǒng)保持在合適的溫度以獲得最佳的計(jì)算性能,美國的數(shù)據(jù)中心冷卻系統(tǒng)消耗的能源和水的消耗量與費(fèi)城的所有居民一樣多?,F(xiàn)在,通過將液體冷卻通道直接集成到半導(dǎo)體芯片中,研究人員希望至少在電力電子設(shè)備中減少這種損耗,使其體積更小、成本更低、能耗更低。
傳統(tǒng)上,電子設(shè)備和熱管理系統(tǒng)是分開設(shè)計(jì)和制造的,瑞士洛桑??茽柪砉W(xué)院的電氣工程教授Elison Matioli說。這給提高冷卻效率帶來了一個(gè)根本性的障礙,因?yàn)闊崃勘仨氃诙鄠€(gè)材料中傳播相對較長的距離才能去除。例如,在今天的處理器中,熱材料虹吸管將熱量從芯片轉(zhuǎn)移到體積龐大的風(fēng)冷銅散熱片上。
為了獲得更節(jié)能的解決方案,Matioli和他的同事開發(fā)了一種低成本的工藝,將微流控冷卻通道的3D網(wǎng)絡(luò)直接放入半導(dǎo)體芯片中。液體比空氣更能去除熱量,其想法是將冷卻液千分尺遠(yuǎn)離芯片熱點(diǎn)。
但與之前報(bào)道的微流控冷卻技術(shù)不同,他說:“我們從一開始就設(shè)計(jì)電子器件和冷卻系統(tǒng)?!币虼?,微通道就在每個(gè)晶體管器件的有源區(qū)下方,在那里它的溫度最高,這使冷卻性能提高了50倍。他們在近日的《自然》雜志上報(bào)道了他們的共同設(shè)計(jì)理念。
研究人員早在1981年就提出了微通道冷卻技術(shù),而Cooligy等初創(chuàng)公司也一直在追求處理器的理念。但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正從平面器件轉(zhuǎn)向三維器件,并朝著多層結(jié)構(gòu)的未來芯片發(fā)展,這使得冷卻通道變得不切實(shí)際?!斑@種嵌入式冷卻解決方案不適用于現(xiàn)代處理器和芯片,如CPU,”TiweiWei說,他在比利時(shí)的Interuniversity Microelectronics Center和KU Luuven研究電子冷卻解決方案?!跋喾矗@種冷卻技術(shù)對電力電子最有意義,”他說。
電力電子電路管理和轉(zhuǎn)換電能,廣泛應(yīng)用于計(jì)算機(jī)、數(shù)據(jù)中心、太陽能電池板和電動(dòng)汽車等領(lǐng)域。他們使用了大面積分立器件,由寬禁帶半導(dǎo)體如氮化鎵制成。這些設(shè)備的功率密度在過去幾年里急劇上升,這意味著它們必須“與一個(gè)巨大的散熱器掛鉤”,Matoli說。
最近,電力電子模塊已經(jīng)轉(zhuǎn)向液體冷卻,無論是通過冷板還是微通道冷卻系統(tǒng)。但是,迄今為止,所有的微通道冷卻系統(tǒng)都是單獨(dú)制造的,然后與芯片結(jié)合。鍵合層增加了耐熱性,通道和電路設(shè)備不緊密對齊。
“我們把它提升到了下一個(gè)水平,”Matoli說,通過在同一芯片中制造設(shè)備和冷卻通道。他們在涂覆在硅襯底上的氮化鎵層中蝕刻微米寬的裂痕。縫長30μm,深115μm。利用特殊的氣體刻蝕技術(shù),它們拓寬硅襯底上的縫隙,形成液體冷卻液通過的通道。
然后,研究人員利用銅密封氮化鎵層中的微小開口,在上面制造設(shè)備。他說:“我們只在晶圓的微小區(qū)域有微通道,這些微通道與每一個(gè)晶體管都有接觸。這使得這項(xiàng)技術(shù)更加有效,因?yàn)槲覀兛梢詮母浇崛〈罅康臒崃?,但我們使用的抽水功率非常小?!?/p>
作為演示,研究人員制作了一個(gè)由四個(gè)Schottky二極管組成的交流-直流整流電路,每個(gè)二極管可以處理1.2kV的電壓,像這樣的電路通常需要一個(gè)拳頭大小的散熱器。但是集成了液體冷卻系統(tǒng)的電路芯片安裝在一塊U盤大小的印刷電路板上,電路板由三層組成,上面刻有通道,將冷卻液輸送到芯片上。
該顯示表明,功率密度超過1700瓦/平方厘米的熱點(diǎn),僅使用0.57瓦/平方厘米的泵送功率就可以冷卻。與之前報(bào)道的微流控通道冷卻相比,性能提高了50倍。
Wei說,“氮化鎵薄膜和銅密封層的可靠性應(yīng)該隨著時(shí)間的推移進(jìn)行研究。但這種創(chuàng)新的冷卻解決方案是朝著“低成本、超緊湊合節(jié)能的電力電子冷卻系統(tǒng)”邁進(jìn)的一大步。”
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