2021年全球光刻機行業(yè)市場現(xiàn)狀與競爭格局分析

時間:2021-09-22

來源:前瞻產(chǎn)業(yè)研究院

導(dǎo)語:光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備,也是光刻膠材料研發(fā)的重要設(shè)備,根據(jù)晶瑞電材的集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目信息,設(shè)備及安裝費占總投資額的69%,而光刻機就占設(shè)備及安裝費的44%。

光刻機占高端光刻膠研發(fā)項目的成本份額

2、2020年全球光刻機銷量同比增長16.7%,以中低端產(chǎn)品為主

  目前,全球光刻機市場的集中度極高,前三大廠商的市場份額占比達90%以上。數(shù)據(jù)顯示,2015-2020年,全球光刻機銷售量總體增長,2020年達413臺,同比增長16.7%。

全球光刻機TOP3企業(yè)的光刻機銷售量

  光刻機隨著光刻技術(shù)的更迭,已從最初的g-line,i-line歷經(jīng)KrF、ArF發(fā)展到了如今的EUV。2020年,全球光刻機銷量仍以中低端產(chǎn)品(KrF、i-Line)為主,合計達264臺,占比約65%;而在高端光刻機-EUV的銷量為31臺,占比約19%。

光刻機銷售量結(jié)構(gòu)

3、荷蘭ASML公司占全球光刻機龍頭地位

  從TOP3企業(yè)的競爭格局來看,2020年,荷蘭ASML公司占比62%,出貨量達到258臺,力壓尼康和佳能:

企業(yè)競爭格局

  同時,從銷售額來看,由于當前僅有荷蘭ASML公司銷售高端光刻機-EUV(售價最高),因此,ASML仍占據(jù)市場龍頭地位,市場份額達91%。

企業(yè)競爭格局(按銷售額)

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