編者按：首屆中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體材料研討會(huì)在上海召開(kāi)，會(huì)議由SEMI中國(guó)與國(guó)家高技術(shù)新材料領(lǐng)域聯(lián)合主辦，CSMIC是迄今為止中國(guó)半導(dǎo)體材料和工藝領(lǐng)域最大的國(guó)際性專(zhuān)業(yè)技術(shù)研討會(huì)。 近日，中國(guó)半導(dǎo)體材料國(guó)際研討會(huì)（China Semiconductor Materials International Conference，CSMIC 2008）在上海隆重召開(kāi)。會(huì)議由SEMI中國(guó)與國(guó)家高技術(shù)新材料領(lǐng)域聯(lián)合主辦，CSMIC是迄今為止中國(guó)半導(dǎo)體材料和工藝領(lǐng)域最大的國(guó)際性專(zhuān)業(yè)技術(shù)研討會(huì)。科技部曹健林副部長(zhǎng)出席大會(huì)并致開(kāi)幕辭。 為期2天的研討會(huì)圍繞半導(dǎo)體材料與工藝集成、光刻技術(shù)及相關(guān)材料、CMP與清洗技術(shù)及相關(guān)材料、薄膜電鍍與刻蝕及相關(guān)材料、封裝材料、前沿半導(dǎo)體技術(shù)與材料、硅材料等7個(gè)專(zhuān)題內(nèi)容進(jìn)行了研討。來(lái)自美國(guó)、比利時(shí)、法國(guó)、德國(guó)、日本、韓國(guó)、臺(tái)灣、非律賓等國(guó)家、地區(qū)的多家公司與國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料公司、制造公司的代表交流了材料工藝技術(shù)領(lǐng)域的最新發(fā)展與動(dòng)態(tài)。本屆研討會(huì)共收到技術(shù)論文80多篇，共有261人參加了本次研討會(huì)。 曹健林副部長(zhǎng)在講話中指出，半導(dǎo)體材料是集成電路和整個(gè)電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，中國(guó)政府將組織半導(dǎo)體材料界通過(guò)2006-2020年中長(zhǎng)期科技發(fā)展規(guī)劃“極大規(guī)模集成電路裝備與成套工藝”重大專(zhuān)項(xiàng)的實(shí)施，突破核心技術(shù)，培育旗艦企業(yè)，帶動(dòng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展，打造中國(guó)半導(dǎo)體材料供應(yīng)體系，滿(mǎn)足當(dāng)前中國(guó)地區(qū)集成電路生產(chǎn)對(duì)材料的需求；同時(shí)，面向下一代技術(shù)發(fā)展，開(kāi)展新材料、新工藝研究，構(gòu)建起以企業(yè)為主體，研究機(jī)構(gòu)和大學(xué)共同支撐的集成電路材料創(chuàng)新系統(tǒng)構(gòu)架，為中國(guó)地區(qū)和全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。 曹健林副部長(zhǎng)強(qiáng)調(diào)，中國(guó)政府重視國(guó)際合作，鼓勵(lì)引進(jìn)技術(shù)消化吸收再創(chuàng)新。曹健林副部長(zhǎng)勉勵(lì)與會(huì)中外專(zhuān)家為中國(guó)半導(dǎo)體材料科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展加強(qiáng)合作，同時(shí)也希望研討會(huì)能夠成為國(guó)內(nèi)外企業(yè)、高校、研究院以及關(guān)心半導(dǎo)體材料發(fā)展的相關(guān)機(jī)構(gòu)的一個(gè)交流平臺(tái)，在促進(jìn)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域科技創(chuàng)新、產(chǎn)業(yè)發(fā)展和智力合作等方面發(fā)揮積極作用。