光束整形與偏轉(zhuǎn)： B-421 BIX 雙相慣性驅(qū)動小型線性平臺

　　1 面向嚴(yán)苛高科技應(yīng)用的精密穩(wěn)定定位系統(tǒng)

　　現(xiàn)代高科技定位應(yīng)用面臨長期定位穩(wěn)定性、納米級重復(fù) 精度、緊湊型設(shè)計、狹小空間靈活配置等核心挑戰(zhàn)，即使是 輕微偏差也可能導(dǎo)致功能失效。因此，對分辨率、穩(wěn)定性和 集成能力提出了嚴(yán)苛要求。PI B-421 BIX小型線性平臺專為 滿足這些技術(shù)需求而設(shè)計。

　　2 B-421 BIX小型線性平臺的特點及優(yōu)勢

　　(1)優(yōu)勢概覽

　　· 出色精度：最小位移10nm;

　　· 穩(wěn)定性：自鎖機(jī)構(gòu)可實現(xiàn)長期高穩(wěn)定性定位;

　　· 適應(yīng)性：高有效載荷和驅(qū)動力;

　　· 節(jié)省空間，配置靈活：緊湊型設(shè)計，易于堆疊，靈活 實現(xiàn)多軸組合;

　　· 精密定位：高分辨率和重復(fù)精度。

　　(2)重要參數(shù)概覽

　　· 最小位移：10nm;

　　· 尺寸：25×11mm(寬×高);

　　· 行程范圍：13至33mm;

　　· 分辨率：6nm;

　　· 最大驅(qū)動力：2.5N;

　　· 最大有效載荷：0.5kg(X向運動);0.15kg(任意 方向);

　　· 便捷易用的PIMikroMove軟件。

　　(3)精確的光束整形與偏轉(zhuǎn)

　　現(xiàn)代高精度系統(tǒng)的成功，尤其依賴于光學(xué)元件的納米級 精密穩(wěn)定定位。光束操控的典型需求包括：反射鏡、光闌和透鏡的長期定位，以及可重復(fù)光束偏轉(zhuǎn)的納米級精密對準(zhǔn)。 市場亟需結(jié)構(gòu)緊湊，并能靈活集成至多軸系統(tǒng)的納米級精密 定位方案。這對半導(dǎo)體領(lǐng)域(例如套刻量測)以及顯微領(lǐng)域 (例如TI RF和STED等超分辨顯微技術(shù))的光束質(zhì)量控制 尤為重要。 B-421 BIX小型線性平臺很好地滿足了這些應(yīng) 用要求。

　　3 應(yīng)用：光束整形與偏轉(zhuǎn)

　　光束整形與偏轉(zhuǎn)可精密定制光束，滿足半導(dǎo)體、顯微 成像等高技術(shù)應(yīng)用的需求。這些應(yīng)用要求光學(xué)元件具有長期 定位能力，并盡可能降低漂移。PI小型線性平臺采用雙相慣 性驅(qū)動技術(shù)，提供高推力、高分辨率的精密定位及長期穩(wěn)定 性，是嚴(yán)苛工業(yè)應(yīng)用或顯微任務(wù)的理想選擇。其緊湊結(jié)構(gòu)尤 其適用于空間受限場景，而易于堆疊的特性則可靈活配置多 軸系統(tǒng)，滿足復(fù)雜定位需求。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，光束整形與偏 轉(zhuǎn)技術(shù)在晶圓的質(zhì)量控制環(huán)節(jié)尤為重要，例如套刻量測中的 光闌精密定位。在顯微技術(shù)領(lǐng)域，它們可實現(xiàn)納米量級的 光路精確調(diào)控，為全內(nèi)反射熒光(TIRF)和受激發(fā)射損耗 (STED)等現(xiàn)代超分辨顯微技術(shù)提供核心支撐。為此，需 要采用壓電慣性驅(qū)動的線性平臺，來實現(xiàn)精準(zhǔn)穩(wěn)定的光束 操控。

　　(1)主要特點

　　最小位移僅10nm，精度出眾;自鎖機(jī)構(gòu)可實現(xiàn)長期高 穩(wěn)定性定位(無需電源);高分辨率和可重復(fù)性，實現(xiàn)納米 級精密定位;緊湊型設(shè)計，節(jié)省安裝空間;易于堆疊，靈活 實現(xiàn)多軸組合。

　　(2)B-421 BIX小型線性平臺

　　· 雙相慣性驅(qū)動技術(shù);

　　· 最小驅(qū)動力：2.5N;

　　· 行程為13mm、23mm或33mm;

　　· 最大有效載荷：0.5kg(XY向運動);0.15kg(任意 方向);

　　· 便捷易用的PI軟件： PIMikroMove;

　　· 集成增量編碼器，分辨率高達(dá)6nm。

　　(3)運動控制器E-881

　　· 指令集： GCS 3.0;

　　· USB和TCP/IP接口;

　　· 驅(qū)動程序集，可用于C、C++、C#、NI LabVIEW、 MATLAB和Python等;

　　· 仿真器可用;

　　· 1個主動軸;

　　· 2路模擬輸入，4路數(shù)字輸入/輸出。