先進封裝產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新論壇在北方微電子成功舉辦
導語:2014年5月29日,由SEMI China主辦、北方微電子承辦的“先進封裝產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新論壇暨SEMI封測委員會第六次會議”成功召開。
來自長電科技、華天科技、南通富士通、日月光、華進半導體、中芯國際、浪潮華芯、華虹宏力、西岳微電子、瑞薩半導體、中電科五十八所等先進封裝測試企業(yè);華為、思比科、兆易等IC設計企業(yè);新陽半導體、七星華創(chuàng)、東京電子、SPTS等半導體裝備及材料企業(yè);以及包含清華大學、PRISMARK等科研機構(gòu)在內(nèi)的近百名來賓參與了本次會議。
近年來,我國半導體封裝產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展,但是高端產(chǎn)品的封裝技術(shù)仍然主要掌握在發(fā)達國家手里。此次論壇聚焦“先進封裝產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新”,探討了目前諸如可穿戴產(chǎn)品的發(fā)展對封裝市場帶來的機遇、IC封裝晶圓工藝制程的機遇和挑戰(zhàn)、先進封裝專利現(xiàn)狀和思考,等國內(nèi)封測企業(yè)遇到的核心問題,實現(xiàn)了先進封裝產(chǎn)業(yè)鏈從設計、封裝、測試、設備、材料企業(yè)的共同發(fā)展。
北方微電子作為國內(nèi)有著多年高端裝備制造經(jīng)驗的企業(yè),兩年前進入封裝領域,憑借多年來在集成電路芯片制造設備領域的經(jīng)驗積累,積極延伸產(chǎn)品技術(shù),將刻蝕與PVD技術(shù)成功應用于2.5D、3D封裝用的12寸及8寸關(guān)鍵設備——深孔/槽刻蝕與PVD設備,可滿足研發(fā)與生產(chǎn)等多種需求,并能有效降低客戶擁有成本。
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