本發(fā)明提供了BET表面積為20—150m︿2/g的聚集的晶體硅粉末。它是通過(guò)如下步驟制得的:使至少一種蒸氣的...[查看詳情]
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晶體硅太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)化及應(yīng)用產(chǎn)品開(kāi)發(fā)
西安交通大學(xué)太陽(yáng)能研究所研制的太陽(yáng)能照明燈系列技術(shù)有:太陽(yáng)能照明燈設(shè)計(jì)技術(shù)、太陽(yáng)能照明燈過(guò)放控制...[查看詳情]
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利用激光燒蝕沉積法在n-Si(100)襯底上制備非晶硅(α-Si)薄膜,再經(jīng)過(guò)高溫退火技術(shù)處理使α-Si晶化成...[查看詳情]
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基于數(shù)字圖像處理的晶體硅顆粒形態(tài)分析算法
顆粒形態(tài)分析是準(zhǔn)確進(jìn)行顆粒識(shí)別的基礎(chǔ).本文利用圖像處理技術(shù)統(tǒng)計(jì)顆粒數(shù)目,標(biāo)注顆粒質(zhì)心,計(jì)算了顆粒...[查看詳情]
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2003年以來(lái),我國(guó)光伏產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)能力飛速增長(zhǎng)。到2006年底,晶體硅光伏電池用硅片的生產(chǎn)能力已超過(guò)500MW...[查看詳情]
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通過(guò)調(diào)整背電極漿料和電池基片厚度,探索了減少太陽(yáng)電池彎曲度的途徑。[查看詳情]
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納米硅/晶體硅異質(zhì)結(jié)電池的暗I-V特性和輸運(yùn)機(jī)制
采用HWCVD技術(shù)在P型CZ晶體硅襯底上制備了納米硅/晶體硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池,測(cè)量了晶體硅表面在不同氫處理...[查看詳情]
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AFORS—HET軟件模擬N型非晶硅/p型晶體硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池
運(yùn)用AFORS-HET程序模擬計(jì)算了不同本征層厚度、能隙寬度、發(fā)射層厚度、能帶失配以及不同界面態(tài)密度等參數(shù)...[查看詳情]
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電子束誘導(dǎo)電流(EBIC:Electron Beam Induced Current)是研究晶體缺陷(如晶界、位錯(cuò)、沉淀等)復(fù)合特...[查看詳情]
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以RTCVD方法在低成本襯底——顆粒硅帶(SSP)上制備了外延晶體硅薄膜電池.在20×20mm2上得到的最高轉(zhuǎn)換...[查看詳情]
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