01光刻機市場數(shù)據(jù)分析

光刻機毫無疑問是半導(dǎo)體器件制造中最重要的設(shè)備。其重要性不僅僅局限于工藝技術(shù)層面，還反映在其數(shù)量和產(chǎn)能的緊密關(guān)系上。

上圖是ASML公布過的一張不同產(chǎn)片和工藝節(jié)點在特定產(chǎn)能下對應(yīng)需要的各種光刻機數(shù)量。雖然實際上由于不同的晶圓廠的技術(shù)路線和水平不同會造成單位產(chǎn)能所需的設(shè)備數(shù)量會有一定差異，但在數(shù)量級層面上這個數(shù)據(jù)具有非常高的參考性。所以當(dāng)我們了解到各類光刻機的具體出貨數(shù)量，就可以大體推算出市場產(chǎn)能的變化情況。

目前全球能夠提供前道制造用光刻機的供應(yīng)商一共只有三家：ASML、NIKON和CANON。所以我們只要統(tǒng)計這三家季報里公布的數(shù)據(jù)，就可以具體了解全球前道光刻機的出貨量(見下圖)：

由圖可見，2017年以后，全球光刻機的出貨量(臺數(shù))明顯持續(xù)增加，而且從數(shù)量上看，EUV和KrF的增量最為明顯。

參考上面ASML的產(chǎn)能/設(shè)備數(shù)量對應(yīng)關(guān)系圖，我們可以明確感知到2017年以后先進工藝的迅猛發(fā)展態(tài)勢。這和我們之前整理的其它數(shù)據(jù)反映的現(xiàn)象邏輯上是非常吻合的。尤其是通過EUV光刻機的出貨數(shù)量，我們可以比較容易地推算7nm及以下先進制程的產(chǎn)能擴張情況，從而幫助我們了解和預(yù)測未來高端器件市場的走勢。

上圖是三家供應(yīng)商分別的各類機臺具體出貨數(shù)量統(tǒng)計。由圖可知：

ASML：目前已經(jīng)基本壟斷了ArF Dry、ArF i和EUV(100%)的市場。后續(xù)只要關(guān)注和研究其財報數(shù)據(jù)就可以幫助我們基本了解整個半導(dǎo)體市場的變化趨勢。

NIKON：雖然理論上有除了EUV以外的所有類型光刻機產(chǎn)品，但近年來其ArF相關(guān)的高端產(chǎn)品出貨量日趨萎縮，幾乎沒有市場份額。(其出貨的ArF光刻機里有相當(dāng)一部分還是翻新機)

CANON：目前產(chǎn)品完全集中于特定工藝領(lǐng)域的i-Line和KrF設(shè)備。出貨量增長趨勢不錯，但沒有任何高端工藝用設(shè)備。

基于以上因素，所以我們在研究半導(dǎo)體市場的時候，可以基本集中于ASML公司一家的數(shù)據(jù)：

由上圖可見，ASML目前幾乎一半以上的營收來自于EUV光刻機。其不僅僅在數(shù)量上不斷增加，而且隨著技術(shù)和性能(套刻精度、生產(chǎn)效率等)的提升，其機臺的單價也迅速增長，幫助EUV成為公司最主要的利潤來源。

不過不論如何，ASML的光刻機營收占全球所有半導(dǎo)體設(shè)備市場的比例沒有明顯長期變化趨勢，整體維持在10~20%區(qū)間。而且這一比例在未來較長時間里也不會有其它變化。三家供應(yīng)商主要機臺型號及參數(shù)表