華為正計(jì)劃在上海建不使用美國(guó)技術(shù)的芯片制造工廠

時(shí)間:2020-11-02

來(lái)源:TechWeb.com.cn

導(dǎo)語(yǔ):11月2日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,華為正計(jì)劃在上海建造不使用美國(guó)技術(shù)的芯片制造工廠。

112日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,華為正計(jì)劃在上海建造不使用美國(guó)技術(shù)的芯片制造工廠。

了解該項(xiàng)目的人知情稱(chēng),華為沒(méi)有制造芯片的經(jīng)驗(yàn),該廠將由合作伙伴上海集成電路研發(fā)中心運(yùn)營(yíng)。

知情人士稱(chēng),預(yù)計(jì)該廠將從低端的45納米起步。華為計(jì)劃在2021年底之前制造用于“物聯(lián)網(wǎng)”設(shè)備的28納米芯片,在2022年底之前生產(chǎn)用于5G電信設(shè)備的20納米芯片。

據(jù)官網(wǎng)介紹,上海集成電路研發(fā)中心有限公司(ICRD)成立于2002年,ICRD由中國(guó)集成電路相關(guān)企業(yè)集團(tuán)和高校聯(lián)合投資組建而成。

上海集成電路研發(fā)中心位于上海市張江高科技園區(qū),地理位置毗鄰華力微電子和中芯國(guó)際。ICRD建有中國(guó)12英寸開(kāi)放式集成電路先進(jìn)工藝研發(fā)和裝備材料試驗(yàn)平臺(tái),凈化面積超過(guò)3000平方米,研發(fā)環(huán)境及管理系統(tǒng)和大生產(chǎn)線完全匹配,可實(shí)現(xiàn)硅片無(wú)沾污進(jìn)出和工藝流程無(wú)縫銜接,加快了技術(shù)研發(fā)和驗(yàn)證速度。


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